QYNEXA चे उत्पादन, "डिफंक्शनल मेथाक्रिलेट मोनोमर," उत्कृष्ट बाँडिंग सामर्थ्य आणि हवामान प्रतिरोधकतेसह अत्यंत कार्यक्षम चिकट आहे. प्लॅस्टिक, धातू, सिरॅमिक्स इत्यादींसह विविध सामग्रीच्या बाँडिंगसाठी याचा मोठ्या प्रमाणावर वापर केला जाऊ शकतो. याव्यतिरिक्त, डिफंक्शनल मेथाक्रिलेट मोनोमरमध्ये उष्णता प्रतिरोधक आणि रासायनिक प्रतिरोधक क्षमता देखील आहे, ज्यामुळे ते अत्यंत परिस्थितीत स्थिर कामगिरी राखू शकते. बांधकाम, ऑटोमोटिव्ह, इलेक्ट्रॉनिक्स किंवा एरोस्पेस असो, डिफंक्शनल मेथाक्रिलेट मोनोमर हे एक आदर्श बाँडिंग सोल्यूशन आहे. शिवाय, डिफंक्शनल मेथाक्रिलेट मोनोमर त्वरीत बरा होतो आणि ऑपरेट करणे सोपे आहे, ज्यामुळे ते अनेक उद्योगांमध्ये पसंतीचे चिकटते. या उत्पादनाची उत्कृष्ट कार्यक्षमता आणि विस्तृत अनुप्रयोग हे बाजारात लोकप्रिय बनवते.
कार्यात्मक पदवी | स्निग्धता (cps/25°C) | आण्विक वस्तुमान | उत्पादन हायलाइट | सुचवलेले अर्ज | |
PD6202M1,6-Hexanediol DimethacrylateEEOEA ![]() |
2 | 8 | 254 | हायड्रोफोबिक मुख्य साखळी, हवामान प्रतिकार, रासायनिक प्रतिकार आणि पाण्याचा प्रतिकार असलेले | सीलंट, फोटोरेसिस्ट, फोटोसेन्सिटिव्ह रेजिन्स, अल्कीड रेझिन कोटिंग्स |
PD6206Mडायथिलीन ग्लायकोल डायमेथाक्रिलेटडीईजीडीएमए ![]() |
2 | 8 | - | कमी स्निग्धता, कमी अस्थिरता, उच्च उकळत्या बिंदू | कोटिंग्ज, शाई, सोल्डर मास्क इंक्स, सीलंट, फोटोरेसिस्ट, यूव्ही क्युरेबल रेजिन्स |
PD6209M1,4-Butanediol DimethacrylateEEOEA ![]() |
2 | 7 | 226 | कमी स्निग्धता, उच्च विद्राव्यता, हवामान प्रतिकार | Elastomers, Photoresists |
PD6210ME22EO Bisphenol A DimethacrylateBisA(2EO)DMA ![]() |
2 | 1082 | 496 | जलद बरा दर, कमी अस्थिरता, उष्णता प्रतिकार. | ॲनारोबिक ॲडेसिव्ह्स, कोटिंग्स, फोटोरेसिस्ट, फोटोपॉलिमर, फ्लेक्सो आणि ग्रॅव्हर इंक्स, प्लास्टीसोल, सीलंट. |
PD6210ME44EO Bisphenol A DimethacrylateBisA(4EO)DMA ![]() |
2 | 555 | 540 | जलद उपचार, कमी अस्थिरता, उष्णता प्रतिकार | ॲनारोबिक ॲडेसिव्ह्ज, कोटिंग्ज, डेंटल पॉलिमर, फोटोरेसिस्ट, फोटोक्युरेबल रेजिन्स, फ्लेक्सोग्राफिक आणि ग्रॅव्हर इंक्स, प्लॅस्टिकायझर्स, सीलंट |
PD6210ME66EO Bisphenol A DimethacrylateBisA(6EO)DMA ![]() |
2 | 440 | 629 | अल्कली विद्राव्यता, कमी गंध, हायड्रोफोबिक/हायड्रोफिलिक संतुलन, पाणी प्रतिरोध, उष्णता प्रतिरोध, रासायनिक प्रतिकार, कमी संकोचन, पोशाख प्रतिरोध, लवचिकता असलेली हायड्रोफोबिक मुख्य साखळी असलेली | चिकट, कोटिंग, सोल्डर मास्क इंक, फोटोरेसिस्ट, फोटोसेन्सिटिव्ह राळ |
PD6210ME1010EO Bisphenol A DimethacrylateBisA(10EO)DMA ![]() |
2 | 410 | 808 | जलद बरा दर, कमी अस्थिरता, उष्णता प्रतिकार. | ॲनारोबिक ॲडेसिव्ह्स, कोटिंग्स, फोटोरेसिस्ट, फोटोपॉलिमर, फ्लेक्सो आणि ग्रॅव्हर इंक्स, प्लास्टीसोल, सीलंट. |
PD6216Mपॉलीथिलीन ग्लायकोल (200) डायमेथाक्रिलेटPEG200DMA ![]() |
2 | 15 | 336 | कमी स्निग्धता, जलद उपचार प्रतिक्रिया, रासायनिक प्रतिकार | ॲनारोबिक ॲडेसिव्ह, सीलंट, प्लॅस्टिकायझर |
PD6217Mपॉलीथिलीन ग्लायकॉल (600) डायमेथाक्रिलेटPEG600DMA ![]() |
2 | 67 | 736 | पाण्यात विरघळणारे, रसायनांना प्रतिरोधक, लवचिक | चिकटवता, कोटिंग्ज, सोल्डर रेझिस्ट इंक्स, फोटोरेसिस्ट, यूव्ही क्युरेबल रेजिन्स, काँक्रीट सीलंट |
PD6224Mट्रायथिलीन ग्लायकोल डायमेथाक्रिलेटदुकान ![]() |
2 | 11 | 286 | रासायनिक प्रतिकार, लवचिकता. | ॲनारोबिक ॲडेसिव्ह, सोल्डर मास्क, सीलंट, फोटोरेसिस्ट, फोटोपॉलिमर, प्लास्टिक, पेपर कोटिंग्स. |